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濺射靶材行業(yè)技術(shù)水平特點(diǎn)及面臨的機(jī)遇

1、濺射靶材整體行業(yè)概況

靶材是濺射薄膜制備的源頭材料，又稱濺射靶材，特別是高性能濺射靶材應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）工藝，是制備半導(dǎo)體晶圓、顯示面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。

濺射工藝最早起源于國外。起初濺射過程具有工作氣壓高、濺射基體溫升高、濺射沉積速率低等缺點(diǎn)，不滿足工業(yè)化生產(chǎn)的條件。自 20 世紀(jì) 80 年代以來，隨著輔助電極、磁控濺射、脈沖電源等新技術(shù)的應(yīng)用，濺射工藝優(yōu)勢逐步顯現(xiàn)，應(yīng)用范圍不斷拓寬。目前濺射工藝已廣泛應(yīng)用于各種薄膜材料的工業(yè)化制備，是目前主流的鍍膜方法。

在行業(yè)發(fā)展初期，濺射靶材及配套鍍膜設(shè)備均為國外廠商提供。由于國外濺射靶材廠商與設(shè)備廠商具有長期配套磨合的經(jīng)驗(yàn)，靶材在使用過程中的濺射效果能夠充分滿足下游客戶的需求，具有較強(qiáng)的先發(fā)優(yōu)勢及競爭優(yōu)勢。因此，全球?yàn)R射靶材的研發(fā)及生產(chǎn)主要集中于美國、日本及德國等國家的少數(shù)公司，產(chǎn)業(yè)集中度較高。經(jīng)過幾十年的技術(shù)積淀，這些國外廠商憑借其雄厚的技術(shù)力量、精細(xì)的生產(chǎn)控制和過硬的產(chǎn)品質(zhì)量居于全球高端濺射靶材市場的主導(dǎo)地位。

受到發(fā)展歷史及技術(shù)限制的影響，我國濺射靶材行業(yè)起步較晚，目前多數(shù)濺射靶材企業(yè)產(chǎn)品仍主要應(yīng)用于下游的中低端產(chǎn)品，高端濺射靶材產(chǎn)品則多為國外進(jìn)口。全球?yàn)R射靶材市場中主要的四家企業(yè) JX 金屬、霍尼韋爾、東曹和普萊克斯，合計(jì)壟斷了全球約八成的市場份額。近年來，隨著平面顯示、半導(dǎo)體等制造產(chǎn)業(yè)產(chǎn)能向國內(nèi)不斷轉(zhuǎn)移，國內(nèi)濺射靶材需求已占到全球需求的約三成以上，隨著包括疫情在內(nèi)的周邊和國際環(huán)境的變化，實(shí)現(xiàn)國內(nèi)重點(diǎn)行業(yè)關(guān)鍵設(shè)備核心材料的自主可控具有必要性。

近年來，受益于國家從戰(zhàn)略高度持續(xù)地支持電子材料行業(yè)的發(fā)展及應(yīng)用推廣，我國國內(nèi)開始出現(xiàn)少量專業(yè)從事高性能濺射靶材研發(fā)和生產(chǎn)的企業(yè)，并成功開發(fā)出一批能適應(yīng)高端應(yīng)用領(lǐng)域的濺射靶材，為高性能濺射靶材的大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)提供了良好的研發(fā)基礎(chǔ)和市場化條件。

（1）ITO 靶材市場概況

ITO 靶材有中低端和高端之分：中低端 ITO 靶材有建筑玻璃鍍膜靶材、發(fā)熱膜和熱反射膜靶材，應(yīng)用包括部分傳統(tǒng)的汽車顯示屏、部分儀器儀表的顯示；高端ITO 靶材主要用于平面顯示、集成電路半導(dǎo)體、太陽能光伏以及磁記錄和光記錄等領(lǐng)域，尤其用于大面積、大規(guī)格的 TFT-LCD、OLED 等領(lǐng)域，具備高密度、高純度、高均勻性等特點(diǎn)。

平面顯示面板生產(chǎn)是 ITO 靶材當(dāng)前的主要需求領(lǐng)域。在平面顯示面板的生產(chǎn)工藝中，玻璃基板要經(jīng)過多次濺射鍍膜形成 ITO 玻璃，加工組裝用于生產(chǎn) LCD 面板、OLED 面板等。觸控屏（TP）的生產(chǎn)，則還需將 ITO 玻璃進(jìn)行加工處理、經(jīng)過鍍膜形成電極，再與防護(hù)屏等部件組裝加工而成。一般而言，ITO 靶材在顯示面板全部靶材成本中的占比接近 50%。

太陽能光伏電池是 ITO 靶材未來需求的增長點(diǎn)。目前市場主要需求在異質(zhì)結(jié)電池。異質(zhì)結(jié)電池（HIT）在制備透明導(dǎo)電膜階段需要應(yīng)用 ITO 靶材，其生產(chǎn)成本低、轉(zhuǎn)化效率高，有助于進(jìn)一步提升對 ITO 的市場需求。

與濺射靶材整體的情況類似，前期 ITO 靶材制備幾乎由日、韓壟斷，代表企業(yè)有 JX 金屬、三井礦業(yè)、東曹、韓國三星等，其中日礦和三井兩家?guī)缀跽紦?jù)了高端 TFT-LCD 市場用 ITO 靶材的絕大部分份額和大部分的觸控屏面板份額，中國 ITO 靶材供應(yīng)超一半左右依賴進(jìn)口。本土廠商生產(chǎn)的 ITO 靶材主要供應(yīng)中低端市場，約占國內(nèi) 30%的市場份額；而高端TFT-LCD、觸控屏用 ITO 靶材主要依賴日、韓進(jìn)口，進(jìn)口比例約占國內(nèi) 70%的市場份額。

與此同時(shí)，國內(nèi) ITO 濺射靶材領(lǐng)域內(nèi)部分優(yōu)勢企業(yè)正逐漸突破 ITO 濺射靶材的關(guān)鍵技術(shù)，已進(jìn)入到國內(nèi)下游知名企業(yè)的供應(yīng)鏈體系，從試樣、小批量生產(chǎn)到批量生產(chǎn)供應(yīng)，在 ITO 靶材的關(guān)鍵技術(shù)上已逐步接近或達(dá)到國外廠商的技術(shù)水平，正逐漸改變國內(nèi)高端平面顯示用 ITO 靶材產(chǎn)品長期依賴進(jìn)口的局面。

根據(jù)中國光學(xué)光電子行業(yè)協(xié)會(huì)液晶分會(huì)出具的情況說明，2019 年至 2021 年國內(nèi) ITO 靶材市場容量從 639 噸增長到 1,002 噸，年復(fù)合增長率為 25.22%。根據(jù)其預(yù)測，未來 2-3 年內(nèi)，雖然國內(nèi)平面顯示行業(yè)的固定資產(chǎn)投資增速將有所放緩，但由于平面顯示行業(yè)存量需求及太陽能光伏電池的增量需求，國內(nèi) ITO 靶材市場容量仍將保持一定幅度的增長，具體情況如下：

資料來源：中國光學(xué)光電子行業(yè)協(xié)會(huì)液晶分會(huì)、普華有策整理

（2）ITO 靶材的技術(shù)發(fā)展趨勢

①尺寸大型化

隨著電視、PC 等面板面積加速向大尺寸化邁進(jìn)，相應(yīng)的 ITO 玻璃基板也出現(xiàn)了明顯的大型化的趨勢，這使得對 ITO 靶材尺寸的要求越來越大。為滿足大面積鍍膜工藝要求，往往需使用多片或多節(jié)小尺寸靶材拼焊成大尺寸靶材，但焊縫的存在會(huì)導(dǎo)致靶材鍍膜質(zhì)量的下降。因此，研發(fā)大尺寸單片（單節(jié)）靶材，減少焊縫數(shù)量成為 ITO 靶材技術(shù)發(fā)展趨勢。

②高密度化

提高靶材的密度有助于減少毒化現(xiàn)象，并降低電阻率，提高靶材的使用壽命。毒化是指濺射過程中 ITO 靶材表面出現(xiàn)凸起物的結(jié)瘤現(xiàn)象，毒化會(huì)導(dǎo)致靶材濺射速率降低，弧光放電頻率增加，所制備的薄膜電阻增加，透光率降低且均勻性變差，此時(shí)必須停止濺射，清理靶材表面或更換靶材。高密度 ITO 靶材具有較好的熱傳導(dǎo)性和較小的界面電阻，不易在濺射過程中發(fā)生熱量蓄積，可減少毒化概率。因此，高密度化成為 ITO 靶材的技術(shù)發(fā)展趨勢。

③提高利用率

提高靶材利用率一直是靶材制備行業(yè)研究的熱點(diǎn)和難點(diǎn)。在濺射過程中，ITO平面靶材表面會(huì)形成環(huán)形磁場，并在環(huán)形表面進(jìn)行刻蝕，這使得環(huán)形區(qū)域的中心部分無法被濺射，導(dǎo)致平面靶材的利用率較低，目前 ITO 平面靶材的靶坯利用率一般不超過 40%。ITO 旋轉(zhuǎn)靶材相較平面靶材在利用率上有較大提升，旋轉(zhuǎn)靶材圍繞固定的條狀磁鐵組件進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，使得整個(gè)靶面都可以被均勻刻蝕，提高了靶材的利用率，目前 ITO 旋轉(zhuǎn)靶材的靶坯利用率可達(dá) 70%以上。提高 ITO 靶材利用率有助于提高生產(chǎn)效率，降低生產(chǎn)成本，因此成為 ITO 靶材的技術(shù)發(fā)展趨勢。

2、行業(yè)技術(shù)水平及趨勢

（1）行業(yè)的技術(shù)水平

濺射靶材是各類薄膜材料的關(guān)鍵材料，應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，種類繁多，其純度、密度、品質(zhì)等對最終的電子器件的質(zhì)量和性能起著至關(guān)重要的作用。目前高端濺射靶材產(chǎn)品純度一般在 99.99%-99.9999%（即 4N-6N），其質(zhì)量對膜層性能有很大的影響，同時(shí)會(huì)影響到鍍膜的生產(chǎn)效率和成本。濺射靶材的研發(fā)涉及到電性、磁性、熱性、反射率及顏色外觀等多個(gè)技術(shù)特性。

此外，濺射靶材生產(chǎn)企業(yè)必須針對客戶的各種需求，針對不同靶材應(yīng)用不同的工藝及材質(zhì)，譬如金屬靶材需使用塑性加工、熱處理等技術(shù)；陶瓷靶材需要使用到粉體處理、燒結(jié)等技術(shù)；部分特殊合金由于成份均勻性的要求更須使用到復(fù)合粉體制備技術(shù)，其目的即在控制材料微結(jié)構(gòu)，譬如晶粒尺寸、密度、結(jié)構(gòu)的控制等，以達(dá)到客戶的產(chǎn)品要求。

（2）技術(shù)發(fā)展趨勢

濺射靶材的技術(shù)發(fā)展趨勢與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢息息相關(guān)。濺射靶材行業(yè)的技術(shù)發(fā)展主要取決于先進(jìn)薄膜材料、先進(jìn)的薄膜沉積制備技術(shù)和薄膜結(jié)構(gòu)的控制以及對薄膜物理、化學(xué)行為相關(guān)的表面科學(xué)技術(shù)的深入研究。目前，對薄膜材料的制備技術(shù)的研究正向多種類、高性能、新工藝、新裝備等方面發(fā)展；薄膜材料的研究正在向分子層次、原子層次、納米尺度、介觀結(jié)構(gòu)等方向深入；對濺射靶材的研究朝著多元化、高純度、大型化、高濺射速率、高利用率等方向進(jìn)行。

3、行業(yè)面臨的機(jī)遇

（1）國家政策大力支持

高性能濺射靶材及下游平面顯示、半導(dǎo)體、太陽能電池行業(yè)均屬于國家政策支持和鼓勵(lì)的范疇，國家出臺(tái)了一系列的鼓勵(lì)政策和指導(dǎo)意見，為行業(yè)及下游行業(yè)的發(fā)展創(chuàng)造了良好的政策環(huán)境。

同時(shí)，為鼓勵(lì)下游行業(yè)使用國產(chǎn)高性能濺射靶材，2015 年 11 月，財(cái)政部、發(fā)改委、工信部、海關(guān)總署、國家稅務(wù)總局五部委聯(lián)合發(fā)布通知，規(guī)定進(jìn)口靶材的免稅期到 2018 年年底結(jié)束。自 2019 年起，從美國及日本等國家進(jìn)口靶材需要繳納關(guān)稅，增加了進(jìn)口靶材的成本，從而進(jìn)一步提高國產(chǎn)靶材的價(jià)格競爭優(yōu)勢。這充分顯示了我國在重點(diǎn)行業(yè)關(guān)鍵材料上進(jìn)行進(jìn)口替代的力度與決心。

（2）下游市場需求持續(xù)擴(kuò)大

高性能濺射靶材是顯示面板、半導(dǎo)體、太陽能電池、記錄媒體不可缺少的原材料，進(jìn)而廣泛應(yīng)用于消費(fèi)電子、智能家電、通信照明、光伏、計(jì)算機(jī)、工業(yè)控制、汽車電子等多個(gè)下游應(yīng)用領(lǐng)域。我國是全球最大的消費(fèi)電子產(chǎn)品生產(chǎn)國、出口國和消費(fèi)國，也是全球最大的集成電路半導(dǎo)體消費(fèi)國和進(jìn)口國，在最終下游眾多生產(chǎn)及消費(fèi)領(lǐng)域的需求驅(qū)動(dòng)了我國高性能濺射靶材行業(yè)快速增長。因此，未來高性能濺射靶材行業(yè)高速成長的確定性較高，基本不會(huì)受到偶發(fā)性或突發(fā)性因素影響。

隨著全球平面顯示、半導(dǎo)體、太陽能電池、記錄存儲(chǔ)等行業(yè)生產(chǎn)規(guī)模持續(xù)擴(kuò)張，直接帶動(dòng)了高性能濺射靶材行業(yè)的發(fā)展，使得中國國內(nèi)濺射靶材使用量快速增長，給國內(nèi)濺射靶材廠商帶來良好的發(fā)展機(jī)遇。

（3）全球產(chǎn)業(yè)鏈轉(zhuǎn)移提供新機(jī)遇

由于我國大力發(fā)展平面顯示及集成電路半導(dǎo)體行業(yè)，出現(xiàn)了以京東方為代表的平面顯示行業(yè)巨頭以及以中芯國際為代表的集成電路芯片廠商，多條高世代線和大尺寸產(chǎn)線建成或在建，使得全球面板及半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向國內(nèi)進(jìn)行大規(guī)模轉(zhuǎn)移。但與此同時(shí)，上游配套材料卻仍主要由以日本為代表的國際巨頭予以提供，由于西方國家持續(xù)升級對我國的科技發(fā)展限制，相關(guān)核心原材料的國產(chǎn)替代迫在眉睫。為解決“卡脖子”問題，近年來，我國出臺(tái)了多項(xiàng)濺射靶材行業(yè)的支持政策，也涌現(xiàn)出一批包括本企業(yè)在內(nèi)的國內(nèi)高性能濺射靶材領(lǐng)先企業(yè)，在部分品種靶材的核心技術(shù)上相繼得以突破，并已進(jìn)入到下游知名客戶的供應(yīng)鏈體系。從而提升了我國在全球高性能濺射靶材行業(yè)的市場地位，也為國內(nèi)濺射靶材行業(yè)的進(jìn)一步發(fā)展提供了更為廣闊的市場空間。

（4）國內(nèi)濺射靶材技術(shù)有所突破

近年來，國內(nèi)濺射靶材供應(yīng)商抓住國家政策大力扶持和全球制造業(yè)轉(zhuǎn)移的機(jī)遇，通過自主創(chuàng)新和引進(jìn)國外先進(jìn)生產(chǎn)設(shè)備和技術(shù)，推動(dòng)行業(yè)技術(shù)水平持續(xù)提升，與國際先進(jìn)水平的差距逐步縮小或達(dá)到平均水平，部分自主生產(chǎn)的產(chǎn)品已經(jīng)實(shí)現(xiàn)進(jìn)口替代。此外，國內(nèi)部分具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)及品牌的企業(yè)，憑借先進(jìn)的生產(chǎn)工藝，良好的市場口碑，開始參與國際市場的競爭，并能夠進(jìn)入全球領(lǐng)先企業(yè)的供應(yīng)鏈體系，為國內(nèi)濺射靶材市場的持續(xù)發(fā)展打下了良好基礎(chǔ)。

4、行業(yè)面臨的挑戰(zhàn)

（1）高端技術(shù)人才匱乏

高性能濺射靶材生產(chǎn)工藝復(fù)雜、技術(shù)含量高，對研發(fā)技術(shù)人員的專業(yè)素質(zhì)要求很高，研發(fā)和制造需要具備較為扎實(shí)的專業(yè)知識(shí)儲(chǔ)備和豐富的生產(chǎn)實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)，能對生產(chǎn)過程實(shí)施精細(xì)化管理。目前，雖然國內(nèi)少數(shù)領(lǐng)先企業(yè)依靠自主研發(fā)在部分高性能濺射靶材領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破，但仍需要繼續(xù)在技術(shù)研發(fā)上加大投入，拓展產(chǎn)品線及產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域。由于我國高性能濺射靶材行業(yè)起步較晚，相關(guān)研發(fā)人才及技術(shù)人才較為匱乏，是阻礙本行業(yè)發(fā)展的重要不利因素。

（2）國內(nèi)濺射靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚，整體行業(yè)競爭力仍有不足

在高性能濺射靶材產(chǎn)業(yè)中，美國、日本等發(fā)達(dá)國家企業(yè)已經(jīng)經(jīng)過幾十年的發(fā)展歷程，在核心技術(shù)、生產(chǎn)工藝、產(chǎn)品質(zhì)量、業(yè)界口碑等方面都積累了深厚的基礎(chǔ)，形成了有利的市場先發(fā)優(yōu)勢。我國高性能濺射靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚，雖然少部分領(lǐng)先企業(yè)在部分高性能濺射靶材領(lǐng)域內(nèi)已經(jīng)有所技術(shù)突破，并形成了一定的規(guī)模銷售，但從整體技術(shù)水平、業(yè)務(wù)規(guī)模以及在全球客戶中認(rèn)可程度等方面與境外主要公司之間還存在不小的差距。

5、進(jìn)入行業(yè)的主要壁壘

（1）技術(shù)壁壘

高性能濺射靶材是典型的技術(shù)密集型行業(yè)。濺射靶材的性能影響下游客戶的鍍膜質(zhì)量，濺射靶材的純度、致密度和成分均勻性、晶粒等對靶材性能都有一定影響，但不同應(yīng)用的材料品種和性能要求各有側(cè)重。如平面顯示靶材面積大對均勻性、綁定率要求高；半導(dǎo)體靶材對純度要求高等。

上述相關(guān)的技術(shù)要求都對應(yīng)了較高的技術(shù)門檻，包括粉末制備、塑性加工、熱處理和機(jī)械加工等技術(shù)環(huán)節(jié)，都對生產(chǎn)廠商的生產(chǎn)技術(shù)、機(jī)器設(shè)備、工藝流程和工作環(huán)境都提出了非常嚴(yán)格的要求。長期以來，以美國、日本為代表的高性能濺射靶材生產(chǎn)商在掌握核心技術(shù)以后，執(zhí)行非常嚴(yán)格的保密和專利授權(quán)措施，這對新進(jìn)入行業(yè)的企業(yè)設(shè)定了較高的技術(shù)門檻。

（2）人才壁壘

高性能濺射靶材的技術(shù)及生產(chǎn)工藝涉及到材料學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)、工程學(xué)等多個(gè)學(xué)科，技術(shù)含量高、工藝復(fù)雜，研發(fā)和制造需要大批具有深厚專業(yè)背景、豐富實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的復(fù)合型技術(shù)人才。

由于前期美國、日本、韓國等跨國集團(tuán)壟斷了高性能濺射靶材的核心技術(shù)和關(guān)鍵設(shè)備，導(dǎo)致國內(nèi)高性能濺射靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚，行業(yè)內(nèi)符合上述條件的專業(yè)人才數(shù)量較少，對新進(jìn)入行業(yè)的企業(yè)形成了一定的人才壁壘。

（3）資金壁壘

高性能濺射靶材行業(yè)亦屬于資金密集型產(chǎn)業(yè)。一方面，靶材生產(chǎn)企業(yè)的固定資產(chǎn)投資較大。除廠房投入外，企業(yè)需要投入大量的資金購置不同種類的生產(chǎn)設(shè)備，同時(shí)需要配套先進(jìn)的檢測設(shè)備以保障產(chǎn)品質(zhì)量；另一方面，隨著下游應(yīng)用領(lǐng)域的發(fā)展速度不斷加快，尤其是終端電子消費(fèi)品的市場競爭加劇，生產(chǎn)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)越來越嚴(yán)格，行業(yè)內(nèi)企業(yè)需要不斷加大對產(chǎn)品研發(fā)、技術(shù)裝備的投資力度，才能在激烈的市場競爭中持續(xù)發(fā)展。

（4）客戶認(rèn)證壁壘

高性能濺射靶材技術(shù)含量高，其產(chǎn)品質(zhì)量、性能指標(biāo)直接決定了終端產(chǎn)品的品質(zhì)和穩(wěn)定性，屬于下游客戶在生產(chǎn)中使用的關(guān)鍵材料。因此，高性能濺射靶材行業(yè)存在嚴(yán)格的供應(yīng)商認(rèn)證機(jī)制，同時(shí)滿足下游客戶的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)和性能要求，方能成為合格供應(yīng)商。通常情況下，半導(dǎo)體芯片、平面顯示器、太陽能電池等下游客戶對濺射靶材供應(yīng)商的認(rèn)證過程主要包括供應(yīng)商初評、產(chǎn)品報(bào)價(jià)、樣品檢測、小批量試用、穩(wěn)定性檢測、批量生產(chǎn)等幾個(gè)階段，認(rèn)證過程較為苛刻，認(rèn)證周期較長。

以平面顯示行業(yè)為例，在客戶一條世代線上完成濺射靶材的認(rèn)證，一般至少需要 2-3 年的時(shí)間。如果該客戶擁有多條世代線的，供應(yīng)廠商若想批量供應(yīng)至其他世代線，則每一條都必須經(jīng)過認(rèn)證，但在沒有完成第一條世代線的認(rèn)證前，無法同時(shí)對該客戶其他世代線進(jìn)行認(rèn)證。因此，在認(rèn)證過程中供應(yīng)廠商投入的資金和時(shí)間成本，對多數(shù)行業(yè)內(nèi)中小企業(yè)而言，往往難以承受。由于平面顯示行業(yè)固定資產(chǎn)投入金額巨大，往往一條高世代線的建設(shè)成本為 200-300 億元，考慮到產(chǎn)線折舊等因素，引入新合格供應(yīng)商的成本及風(fēng)險(xiǎn)遠(yuǎn)高于收益，客戶一般傾向于與已通過認(rèn)證的供應(yīng)商長期合作，不斷加大對該類供應(yīng)商產(chǎn)線的開放認(rèn)證。因此，新進(jìn)入行業(yè)內(nèi)企業(yè)面臨著較高的客戶認(rèn)證壁壘。

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第一章宏觀經(jīng)濟(jì)環(huán)境分析

第一節(jié) 全球宏觀經(jīng)濟(jì)分析

一、2021年全球宏觀經(jīng)濟(jì)運(yùn)行概況

二、2022年全球宏觀經(jīng)濟(jì)趨勢預(yù)測

第二節(jié) 中國宏觀經(jīng)濟(jì)環(huán)境分析

一、2017-2021年中國宏觀經(jīng)濟(jì)運(yùn)行概況

二、2022年中國宏觀經(jīng)濟(jì)趨勢預(yù)測

第三節(jié) 高性能濺射靶材行業(yè)社會(huì)環(huán)境分析

第四節(jié) 高性能濺射靶材行業(yè)政治法律環(huán)境分析

一、行業(yè)管理體制分析

二、行業(yè)相關(guān)發(fā)展規(guī)劃

三、主要產(chǎn)業(yè)政策解讀

第五節(jié) 高性能濺射靶材行業(yè)技術(shù)環(huán)境分析

一、技術(shù)發(fā)展水平分析

二、技術(shù)革新趨勢分析

第二章國際高性能濺射靶材行業(yè)發(fā)展分析

第一節(jié) 國際高性能濺射靶材行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀分析

一、國際高性能濺射靶材行業(yè)發(fā)展概況

二、主要國家高性能濺射靶材行業(yè)的經(jīng)濟(jì)效益分析

三、2022-2028年國際高性能濺射靶材行業(yè)的發(fā)展趨勢分析

第二節(jié) 主要國家及地區(qū)高性能濺射靶材行業(yè)發(fā)展?fàn)顩r及經(jīng)驗(yàn)借鑒

一、美國高性能濺射靶材行業(yè)發(fā)展分析

1、2017-2021年行業(yè)規(guī)模情況

2、2022-2028年行業(yè)前景展望

二、歐洲高性能濺射靶材行業(yè)發(fā)展分析

1、2017-2021年行業(yè)規(guī)模情況

2、2022-2028年行業(yè)前景展望

三、日韓高性能濺射靶材行業(yè)發(fā)展分析

1、2017-2021年行業(yè)規(guī)模情況

2、2022-2028年行業(yè)前景展望

四、2017-2021年其他國家及地區(qū)高性能濺射靶材行業(yè)發(fā)展分析

五、國外高性能濺射靶材行業(yè)發(fā)展經(jīng)驗(yàn)總結(jié)

第三章 2017-2021年中國高性能濺射靶材市場供需分析

第一節(jié) 2017-2021年高性能濺射靶材產(chǎn)能分析

一、2017-2021年中國高性能濺射靶材產(chǎn)能及增長率

二、2022-2028年中國高性能濺射靶材產(chǎn)能預(yù)測

三、2017-2021年中國高性能濺射靶材產(chǎn)能利用率分析

第二節(jié) 2017-2021年高性能濺射靶材產(chǎn)量分析

一、2017-2021年中國高性能濺射靶材產(chǎn)量及增長率

二、2022-2028年中國高性能濺射靶材產(chǎn)量預(yù)測

第三節(jié) 2017-2021年高性能濺射靶材市場需求分析

一、2017-2021年中國高性能濺射靶材市場需求量及增長率

二、2022-2028年中國高性能濺射靶材市場需求量預(yù)測

第四章中國高性能濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈結(jié)構(gòu)分析

第一節(jié) 中國高性能濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈結(jié)構(gòu)

一、產(chǎn)業(yè)鏈概況

二、特征

第二節(jié) 中國高性能濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈演進(jìn)趨勢

一、產(chǎn)業(yè)鏈生命周期分析

二、產(chǎn)業(yè)鏈價(jià)值流動(dòng)分析

三、演進(jìn)路徑與趨勢

第三節(jié) 中國高性能濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈競爭分析

第五章 2017-2021年高性能濺射靶材行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈分析

第一節(jié) 2017-2021年高性能濺射靶材行業(yè)上游運(yùn)行分析

一、行業(yè)上游介紹

二、行業(yè)上游發(fā)展?fàn)顩r分析

三、行業(yè)上游對高性能濺射靶材行業(yè)影響力分析

第二節(jié) 2017-2021年高性能濺射靶材行業(yè)下游運(yùn)行分析

一、行業(yè)下游介紹

二、行業(yè)下游需求占比

三、行業(yè)下游發(fā)展?fàn)顩r分析

1、平板顯示領(lǐng)域用高性能濺射靶材市場分析

（1）行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

（2）需求規(guī)模

（3）需求前景預(yù)測

2、半導(dǎo)體集成電路領(lǐng)域用高性能濺射靶材市場分析

（1）行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

（2）需求規(guī)模

（3）需求前景預(yù)測

3、太陽能電池領(lǐng)域用高性能濺射靶材市場分析

（1）行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

（2）需求規(guī)模

（3）需求前景預(yù)測

4、信息儲(chǔ)存領(lǐng)域用高性能濺射靶材市場分析

（1）行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

（2）需求規(guī)模

（3）需求前景預(yù)測

5、光學(xué)領(lǐng)域用高性能濺射靶材市場分析

（1）行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

（2）需求規(guī)模

（3）需求前景預(yù)測

6、其他領(lǐng)域用高性能濺射靶材市場分析

（1）行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

（2）需求規(guī)模

（3）需求前景預(yù)測

第六章中國高性能濺射靶材行業(yè)區(qū)域市場分析

第一節(jié) 華北地區(qū)高性能濺射靶材行業(yè)分析

一、2017-2021年行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀分析

二、2017-2021年市場規(guī)模情況分析

三、2017-2021年市場需求情況分析