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光學(xué)光電子產(chǎn)業(yè)之光學(xué)元器件行業(yè)分析（附報告目錄）

1.光學(xué)光電子行業(yè)概述

光電科技是結(jié)合光學(xué)、電子與電機的尖端科技，近十年來技術(shù)突破發(fā)展迅速，當(dāng)今，光電科技已成為信息系統(tǒng)和網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)中最引人注目的核心技術(shù)，光電子產(chǎn)業(yè)得到前所未有的廣泛關(guān)注和大力發(fā)展。隨著產(chǎn)品不斷的推陳出新，其應(yīng)用層面擴展至通訊、信息、生化、醫(yī)療、能源、民生等工業(yè)，光電產(chǎn)業(yè)已成為眾所矚目的明星產(chǎn)業(yè)，未來隨著光電在通訊、網(wǎng)絡(luò)、多媒體等扮演核心技術(shù)角色，目前光電子產(chǎn)業(yè)已變成一個國家科技實力的體現(xiàn)，更是一個國家綜合實力的體現(xiàn)。可以預(yù)見 21 世紀(jì)將是光電的世紀(jì)。

相關(guān)報告：北京普華有策信息咨詢有限公司《2020-2026年國內(nèi)外精密光學(xué)元器件行業(yè)現(xiàn)狀調(diào)研及趨勢預(yù)測報告》

光電子產(chǎn)業(yè)主要包括信息光電子、能量光電子、消費光電子、軍事光電子、軟件與網(wǎng)絡(luò)等領(lǐng)域。光通信主要包括光纖傳輸系統(tǒng)與設(shè)備、光通信元器件、光通信測試儀器。激光及紅外光電主要包括激光加工設(shè)備、激光器及激光應(yīng)用、紅外光電傳感測試和成像設(shè)備及儀器、醫(yī)用激光技術(shù)設(shè)備等。光電顯示主要包括平板及液晶顯示（FDP、TFT、PDP、LCD、OLED）、大屏幕投影顯示設(shè)備（投影管、HTPS-TFT-LCD、DLP-DMD、LCOS）、顯示技術(shù)及檢測設(shè)備等。半導(dǎo)體照明及光伏主要分為半導(dǎo)體照明（LED）、太陽能光電產(chǎn)品、太陽能光伏產(chǎn)品、太陽能工程等。光學(xué)及光學(xué)元器件主要分為光學(xué)及光學(xué)元器件及光學(xué)材料、光學(xué)儀器設(shè)備、光存儲技術(shù)及產(chǎn)品等。

2.全球光電子產(chǎn)業(yè)未來發(fā)展趨勢

從光電子產(chǎn)業(yè)的競爭態(tài)勢來看，各國正加速光電子產(chǎn)業(yè)發(fā)展，未來競爭將更趨激烈。美國將光電子確定為國家重點發(fā)展技術(shù)，為此建立了若干個光子學(xué)技術(shù)中心，以及位于亞利桑那大學(xué)的“美國光谷”，法國國家科研中心、法國電信公司和阿爾卡特公司在巴黎南部聯(lián)合建立了國家級光電子技術(shù)基地，成為法國光電子技術(shù)領(lǐng)域具有國際先進水平的研究與開發(fā)中心；我國在武漢建立了“中國光谷”，經(jīng)過多年的發(fā)展，在光纖光纜、通信系統(tǒng)和激光設(shè)備方面形成了一些拳頭產(chǎn)品，受到了產(chǎn)業(yè)界的高度關(guān)注。

從光電子主要領(lǐng)域的技術(shù)產(chǎn)品發(fā)展趨勢來看，光器件正向小型化、高可靠、模塊化和集成化方向發(fā)展；光顯示向真彩色、高分辨率、高清晰度、大屏幕和平面化發(fā)展，光輸出/入產(chǎn)品向多功能、高速化、低成本化方向發(fā)展；光儲存將開發(fā)新一代高密度、高速儲存技術(shù)和系統(tǒng)；光通信向超大容量和全網(wǎng)方向發(fā)展；激光器向全固化、超短波長、微加工和高可靠性等方向發(fā)展。

3.國家光電子產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及趨勢

我國已成為世界光學(xué)玻璃生產(chǎn)、光學(xué)元件加工中心和世界光電產(chǎn)品生產(chǎn)組裝的集散地，公司光學(xué)鏡片的加工能力達到國內(nèi)一流水平，并在一些重要領(lǐng)域具備了與業(yè)內(nèi)強手同臺競爭的實力，奧根科技品牌在市場上有較好的影響力。在光電子技術(shù)方面，我國是與國際水平差距相對較小的一個領(lǐng)域，與世界發(fā)達國家?guī)缀跬瑫r起步。特別是近 10 年來我國光電子技術(shù)研究有了突飛猛進的發(fā)展，在很多領(lǐng)域同國外先進國家只有兩三年的差距，個別領(lǐng)域還處于世界領(lǐng)先地位。

為了實現(xiàn)國家目標(biāo)，通過核心技術(shù)突破和資源集成，在一定時限內(nèi)完成的重大戰(zhàn)略產(chǎn)品、關(guān)鍵共性技術(shù)和重大工程，《國家中長期科學(xué)和技術(shù)發(fā)展規(guī)劃綱要（2006-2020）》確定了 16 個重大專項。這些重大專項是我國到 2020 年科技發(fā)展的重中之重。

在這十六個重大專項中，需要以光電子技術(shù)及其相關(guān)產(chǎn)業(yè)為基礎(chǔ)和作為技術(shù)支撐的占到了一半左右，說明光電子產(chǎn)業(yè)在我國經(jīng)濟發(fā)展中占有及其重要的戰(zhàn)略地位，對于增強一個國家經(jīng)濟的核心競爭力能起到戰(zhàn)略性的支撐作用。因此國家已把信息產(chǎn)業(yè)列為帶動整個經(jīng)濟增長和結(jié)構(gòu)升級的支柱產(chǎn)業(yè)予以重點扶持，這為我國光電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供了有利條件。

4.光學(xué)及光學(xué)元器件概況

光學(xué)及光學(xué)元器件是指利用光學(xué)原理進行各種觀察、測量、分析記錄、信息處理、像質(zhì)評價、能量傳輸與轉(zhuǎn)換等光學(xué)系統(tǒng)中的主要器件。光學(xué)及光學(xué)元器件作為能夠承擔(dān)光的傳輸、控制及承載技術(shù)信息的光學(xué)基礎(chǔ)產(chǎn)品，是制造各種光學(xué)儀器、圖像顯示產(chǎn)品、光學(xué)存儲設(shè)備核心部件的重要組成部分。

光學(xué)及光學(xué)元器件按照不同的標(biāo)準(zhǔn)，可進行不同的分類，其中按照精度和用途分類，光學(xué)及光學(xué)元器件分為傳統(tǒng)光學(xué)及光學(xué)元器件和精密光學(xué)及光學(xué)元器件。傳統(tǒng)光學(xué)及光學(xué)元器件主要應(yīng)用在傳統(tǒng)照相機、望遠鏡、顯微鏡等傳統(tǒng)光學(xué)產(chǎn)品；精密光學(xué)及光學(xué)元器件主要用于高檔望遠鏡、顯微鏡、照相機、攝像機、光學(xué)儀器、醫(yī)療設(shè)備以及各種廣角鏡頭、長焦距、變焦鏡頭、安防鏡頭、一體機、車載鏡頭等。精密光學(xué)及光學(xué)元器件的加工與薄膜技術(shù)緊密相關(guān)，具有高精度、高性能的特點，在生產(chǎn)技術(shù)、生產(chǎn)工藝以及設(shè)備等方面均與傳統(tǒng)光學(xué)及光學(xué)元器件存在較大差異。在精密光學(xué)及光學(xué)元器件的制造過程中，計算機技術(shù)、數(shù)控加工技術(shù)、自動控制與精密多層鍍膜技術(shù)、膠合技術(shù)和高速精磨、高速拋光以及精加工、超細微精密加工技術(shù)相結(jié)合，顯著提高了光學(xué)及光學(xué)元器件的精度和質(zhì)量，通常其精度要求較傳統(tǒng)光學(xué)及光學(xué)元器件提高了一個水平檔次。

20 世紀(jì)60 年代以后，隨著光學(xué)技術(shù)、薄膜技術(shù)、信息技術(shù)和微顯示技術(shù)的發(fā)展，尤其是近年來數(shù)字圖像信息產(chǎn)品的市場崛起，精密光學(xué)及光學(xué)元器件除了在傳統(tǒng)光學(xué)行業(yè)里繼續(xù)發(fā)揮作用外，憑借其突出的高精度、高性能的特質(zhì)，精密光學(xué)及光學(xué)元器件被廣泛應(yīng)用于信息產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域。具體表現(xiàn)為：光輸入輸出信息產(chǎn)品領(lǐng)域（包括安防監(jiān)控攝像機、車載系統(tǒng)、數(shù)碼攝像機、投影儀、數(shù)碼照相機、手機攝像頭、掃描儀、打印機、復(fù)印機等）、光存儲領(lǐng)域（包括CD-ROM、DVDROM、DVD-Player、MD-Player 等的光讀取鏡頭）、光通訊等領(lǐng)域。

現(xiàn)代精密光學(xué)及光學(xué)元器件的加工技術(shù)與光學(xué)薄膜技術(shù)緊密相關(guān)。光學(xué)薄膜是一種特殊材料形態(tài)，是指用物理或化學(xué)的方法在基底表面涂覆一層或多層透明的介質(zhì)或者金屬薄膜，每層的厚度與光波長的數(shù)量級相當(dāng)。目前光學(xué)薄膜的先進制造技術(shù)是基于物理氣相沉積法的離子束輔助沉積技術(shù)（IAD）、磁控濺射成膜技術(shù)和基于化學(xué)氣相沉積法的等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)（PCVD）等。光學(xué)薄膜技術(shù)是一門綜合性非常強的工程技術(shù)科學(xué)，其理論基礎(chǔ)是電磁場理論和光的干涉理論，涉及光在傳播過程中通過分層介質(zhì)時的反射、透射和偏振特性等，同時也是一門交叉性很強的學(xué)科，涉及到光電技術(shù)、計算機、真空技術(shù)、材料科學(xué)、自動控制等領(lǐng)域，是現(xiàn)代精密光學(xué)及光學(xué)元器件加工技術(shù)中的制高點。